Applied Materials annonce un chiffre d'affaires de 10,41 milliards de dollars au T4, soutenu par la demande de puces AI

Applied Materials a enregistré un chiffre d'affaires remarquable de 10,41 milliards de dollars pour son quatrième trimestre fiscal, marquant une augmentation de 53 % par rapport à la même période l'année dernière. Cette performance a dépassé les attentes de Wall Street, qui anticipait un chiffre d'affaires d'environ 10,3 milliards de dollars. Les bénéfices ajustés de l'entreprise ont atteint 4,16 dollars par action, dépassant les estimations d'environ 4,06 dollars.

La division des Systèmes de Semi-conducteurs a été un contributeur majeur, générant 8 milliards de dollars de chiffre d'affaires, soit une hausse de 64 % d'une année sur l'autre, reflétant la demande croissante pour des équipements de fabrication de puces avancées.

Suite à l'annonce des résultats, les actions d'Applied Materials (NASDAQ: AMAT) ont augmenté d'environ 3 % lors des échanges après la clôture. En regardant vers l'avenir, l'entreprise prévoit un chiffre d'affaires d'environ 11,1 milliards de dollars pour le premier trimestre fiscal 2027, dépassant les attentes des analystes qui s'élevaient à 10,89 milliards de dollars, avec des bénéfices ajustés projetés autour de 4,35 dollars par action.

Pour l'ensemble de l'année fiscale, Applied Materials a rapporté un chiffre d'affaires total de 34,45 milliards de dollars, soit une augmentation de 21 % par rapport à l'année précédente, tandis que les bénéfices ajustés par action ont augmenté de 37 % pour atteindre 12,89 dollars. Cette croissance est attribuée à la demande croissante pour les technologies de fabrication de semi-conducteurs, en particulier alors que les fabricants de puces étendent leur capacité pour les processeurs AI.

Mises à jour récentes sur Applied Materials

• Applied Materials a annoncé des résultats records pour l'exercice 2026 avec un chiffre d'affaires total de 34,45 milliards de dollars, soit une augmentation de 21 % par rapport à l'année précédente.
• Le PDG Gary Dickerson anticipe une croissance de plus de 40 % dans le secteur des Systèmes Semiconducteurs pour l'année civile 2026.
• Les bénéfices par action non-GAAP pour l'exercice 2026 ont atteint 12,89 $, marquant une augmentation de 37 % d'une année sur l'autre.
• La marge brute non-GAAP pour l'année s'est améliorée à 50,1 %, soit une augmentation de 130 points de base par rapport à l'année précédente.
• Le segment des Systèmes Semiconducteurs a généré un chiffre d'affaires annuel record de 26,142 milliards de dollars pour l'exercice 2026, contre 21,441 milliards de dollars pour l'exercice 2025.
• Applied Materials a retourné 4,75 milliards de dollars aux actionnaires au cours de l'exercice 2026 par le biais de rachats d'actions et de dividendes.

Mises à jour récentes sur Applied Materials

• Applied Materials a annoncé un bénéfice par action non-GAAP record de 4,16 $, dépassant l'estimation consensuelle des analystes de 4,13 $.
• Le chiffre d'affaires trimestriel a atteint 10,41 milliards de dollars, soit une augmentation de 53 % par rapport à l'année précédente, dépassant l'estimation consensuelle de 10,30 milliards de dollars.
• Les prévisions pour le premier trimestre de l'exercice 2027 incluent un bénéfice par action dilué non-GAAP de 4,35 $ +/- 0,20 $.
• Le bénéfice par action GAAP pour le quatrième trimestre était de 3,40 $, en hausse de 43 % par rapport à l'année précédente.
• Le chiffre d'affaires de l'exercice 2026 a totalisé 34,45 milliards de dollars, soit une augmentation de 21 % par rapport à l'année précédente.
• Un flux de trésorerie libre trimestriel record de 2,6 milliards de dollars a été généré, avec plus de 2,4 milliards de dollars distribués aux actionnaires.
• Applied a conclu un accord d'achat d'actions accéléré pour augmenter son investissement dans Besi à environ 20 % de ses actions en circulation.
• De nouveaux partenariats ont été annoncés avec Intel, KIOXIA Corporation, Besi et l'École d'ingénierie Samueli de l'UCLA.
• Introduction du système de métrologie VeritySEM 20 pour le contrôle de la modélisation EUV à haute NA.